loading

Nghiên cứu công nghệ chế tạo phần tử nhạy quang selen ứng dụng trong kỹ thuật chụp ảnh rơnghen tĩnh điện: LAPTS Toán lý: 1.02.07/ Vũ Ngọc Hùng

Tác giả : Vũ Ngọc Hùng

Năm xuất bản : 1991

Nơi xuất bản : H.

Mô tả vật lý : 131tr.; 32cm 1 tt

Số phân loại : 537.5

Chủ đề : 1. $2Bộ TK TVQGQuang điện. 2. $2Bộ TK TVQGVật lí. 3. 7. 4. Chất nhạy quang selen.

Thông tin chi tiết

Tóm tắt :

Nghiên cứu công nghệ chế tạo phần tử nhạy quang Selen trên đế nhôm với kích thước 50X50 mm2 và 400 X 280 mm2. Ảnh hưởng của lớp Selen và yếu tố công nghệ tới quá trình trên. Độ nhạy đối với bức xạ rơnghen của phần tử nhạy quang selen

 Thông tin dữ liệu nguồn

 Thư viện  Ký hiệu xếp giá  Dữ liệu nguồn
Thư viện Quốc gia Việt Nam L3196
https://opac.nlv.gov.vn/pages/opac/wpid-detailbib-id-242137.html