Nghiên cứu công nghệ chế tạo phần tử nhạy quang selen ứng dụng trong kỹ thuật chụp ảnh rơnghen tĩnh điện: LAPTS Toán lý: 1.02.07/ Vũ Ngọc Hùng
Tác giả : Vũ Ngọc Hùng
Năm xuất bản : 1991
Nơi xuất bản : H.
Mô tả vật lý : 131tr.; 32cm 1 tt
Số phân loại : 537.5
Chủ đề : 1. $2Bộ TK TVQGQuang điện. 2. $2Bộ TK TVQGVật lí. 3. 7. 4. Chất nhạy quang selen.
Thông tin chi tiết
Tóm tắt : | Nghiên cứu công nghệ chế tạo phần tử nhạy quang Selen trên đế nhôm với kích thước 50X50 mm2 và 400 X 280 mm2. Ảnh hưởng của lớp Selen và yếu tố công nghệ tới quá trình trên. Độ nhạy đối với bức xạ rơnghen của phần tử nhạy quang selen |
Thông tin dữ liệu nguồn
Thư viện | Ký hiệu xếp giá | Dữ liệu nguồn |
---|---|---|
Thư viện Quốc gia Việt Nam |
L3196 |
https://opac.nlv.gov.vn/pages/opac/wpid-detailbib-id-242137.html |